Китайская компания Hefei Lumiverse Technology совершила революцию в области литографического оборудования, представив первый в мире компактный EUV-сканер. Это устройство, основанное на технологии генерации высоких гармоник (HHG), в тысячи раз меньше традиционных машин ASML и значительно дешевле. В статье мы разберем, как это изобретение может изменить рынок полупроводников, какие преимущества оно предлагает и какие вызовы стоят перед разработчиками.

Что такое EUV-сканер и почему это важно

Технология нового поколения

EUV-литография использует экстремальное ультрафиолетовое излучение с длиной волны 13,5 нм, что позволяет создавать более миниатюрные и мощные чипы. До недавнего времени такие сканеры были огромными и дорогими, что делало их доступными только для крупных производителей.

Проблема доступности

Оборудование ASML, лидера рынка, стоит более $100 млн и занимает пространство, сопоставимое с автобусом. Это создает барьеры для небольших компаний и стран, таких как Китай, которые сталкиваются с санкциями.

Особенности китайского EUV-сканера

Компактность и стоимость

  • Устройство помещается на лабораторном столе.
  • Стоимость в сотни раз ниже, чем у аналогов.

Принцип работы

Сканер использует фемтосекундный лазер, направленный в инертный газ (аргон). В результате нелинейных оптических эффектов генерируется EUV-излучение. Однако мощность такого излучения пока значительно ниже, чем у традиционных систем.

Преимущества и ограничения

Плюсы технологии

  • Возможность обойти санкции и развивать собственное производство чипов.
  • Подходит для опытного производства и контроля качества.

Минусы и вызовы

  • Мощность излучения всего 1 мкВт, что ограничивает производительность.
  • Пока не подходит для массового производства передовых чипов.

Перспективы и будущее разработки

Планы разработчиков

Компания Hefei Lumiverse планирует увеличить мощность сканера до 1 мВт, что позволит выйти на рынок коммерческого оборудования для метрологии и контроля качества.

Роль китайских специалистов

Разработка стала возможной благодаря возвращению в Китай бывшего руководителя EUV-направления американской KMLabs. Это демонстрирует стремительное сокращение технологического отставания КНР.

«Этот сканер — важный шаг к технологической независимости Китая», — отмечают эксперты.

В заключение, китайский EUV-сканер — это не просто инновация, а символ изменения баланса сил в мировой микроэлектронике. Хотя технология еще требует доработки, она открывает новые возможности для развития полупроводниковой промышленности.

Поделиться статьей